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CRF plasma 等离子清洗机

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与以往有机溶剂湿法清洗工序相较,诚峰智造干式等离子体清洗的优点是什么?

与以往有机溶剂湿法清洗工序相较,诚峰智造干式等离子体清洗的优点是什么?
       等离子体是气体分子在真空、放电和其它独特场合所产生的物质。等离子体清洗、蚀刻等离子体装置是在密封容器中设置2个电极产生电磁场,用真空泵实现相应的真空度,伴随着气体越来越薄,分子问距和分子或离子白由运动距离越来越长,受磁场作用,碰撞产生等离子体,同时发光。等离子体在电磁场中移动,并轰击被处理物体的表面,以达到表面处理、清洁和蚀刻的效果。

等离子体清洗

等离子体清洗具有以下优点:
1.等离子体清洗后清洗对象干燥,无需干燥即可送至下道工序。可提高整个工序流水线的处理效率;
2.无线电波范围内高频所产生的等离子体不同于激光等直射光。等离子体的方向性不强,可以深入物体的微孔和凹陷内部完成清洗任务,不需要过多考虑被清洗物体的形状。
3.干式等离子体清洗的真空度约为100Pa,这种清洁条件很容易实现。因此,该装置的设备成本不高,清洗过程不需要使用昂贵的有机溶剂,使整体成本低于传统的湿清洗工序;
4.干式等离子体清洗使用户能够远离有害溶剂对人体的危害,避免湿式清洗中容易清洗物体的问题。

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